특허 상세정보

등록 전계효과트랜지스터의 제조 방법

전계효과트랜지스터의 제조 방법
발명자
안호균, 임종원, 윤형섭, 김해천, 장우진
출원번호
12874102 (2010.09.01)
공개번호
20110057237 (2011.03.10)
등록번호
8518794 (2013.08.27)
출원국
미국
협약과제
09MR6700, 테라헤르츠대역 전파 환경 및 무선 전송 플랫폼 기술 연구, 정태진
초록
Provided is a semiconductor device. The semiconductor device includes: a substrate; an active layer on the substrate; a capping layer on the active layer; source/drain electrodes on the capping layer; a gate electrode on the active layer; and a first void region on a first sidewall of the gate electrode and a second void region on a second sidewall facing the first sidewall.
패밀리
 
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구분 특허 출원국 KIPRIS
등록 반도체 소자 및 그 형성 방법 대한민국 KIPRIS