Disclosed is a field emission device. The field emission device includes: an anode substrate including an anode electrode formed on a surface thereof and a fluorescent layer formed on the anode electrode; a cathode substrate disposed opposite to and spaced apart from the anode substrate, and including at least one cathode electrode formed toward the anode substrate and a field emitter formed on each cathode electrode; and a gate substrate having one surface in contact with the cathode substrate, wherein the gate substrate include gate insulators surrounding the field emitters and having a plurality of openings exposing the field emitters, and a plurality of gate electrodes formed on the gate insulators around the openings and electrically isolated from one another. Thus, when the trajectories of the electron beams emitted from the emitters are rapidly changed over time by a voltage difference between the gate electrodes, an electron beam-scanned area can be expanded due to residual images and the electron beam can be more uniformly emitted due to an electron beam scattering effect and a linear beam spreading effect, resulting in improved emission uniformity of the fluorescent layer.
KSP 제안 키워드
Anode substrate, Beam spreading, Cathode electrode, Cathode substrate, Electron Beam, Gate insulator, Over time, Residual image, Scattering effect, Voltage difference, anode electrode, emission uniformity, field emission, field emission device, field emitter, gate electrode, linear beam
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<출처표시방법 안내> 작성자, 저작물명, 출처, 권호, 출판년도, 이용조건 [예시1] 김진미 외, "매니코어 기반 고성능 컴퓨팅을 지원하는 경량커널 동향", 전자통신동향분석, 32권 4호, 2017, 공공누리 제4유형 [예시2] 심진보 외, "제4차 산업 혁명과 ICT - 제4차 산업 혁명 선도를 위한 IDX 추진 전략", ETRI Insight, 2017, 공공누리 제 4유형
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