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등록 이온 발생용 타깃 및 이를 이용한 치료 장치

이온 발생용 타깃 및 이를 이용한 치료 장치
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발명자
정문연, 표현봉, 김승환, 박형주, 신동호, 이황운, 박선희
출원번호
10-2012-0103021 (2012.09.17) KIPRIS
공개번호
10-2013-0081631 (2013.07.17)
등록번호
10-1923977-0000 (2018.11.26)
출원국
대한민국
협약과제
11MC2300, 종양치료용 레이저 이온 가속 시스템 원천 기술 개발, 김승환
초록
이온 발생용 타깃 및 이를 이용한 치료 장치가 제공된다. 이 치료 장치는 제 1 면 및 제 1 면에 대향하는 제 2 면을 가지되, 그를 관통하도록 제 1 면으로부터 제 2 면을 향해 좁아지고 그의 내벽이 금속으로 구성된 콘형 구멍을 갖는 기판, 기판의 제 2 면에 부착되되, 기판의 제 1 면의 콘형 구멍으로 입사되어 증강된 레이저 빔에 의해 이온을 발생시키는 이온 발생용 박막, 및 이온 발생용 박막으로부터 이온을 발생시켜 환자의 종양 부위로 투사하기 위해, 기판의 제 1 면의 콘형 구멍의 내부로 레이저 빔을 입사시키기 위한 레이저를 포함한다. 콘형 구멍의 내부로 입사된 레이저 빔은 콘형 구멍에 의한 집속에 의해 그 세기가 증강되고, 증강된 레이저 빔에 의해 이온 발생용 박막으로부터 이온이 방출된다.
패밀리
 
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구분 특허 출원국 KIPRIS
등록 이온 발생용 타깃 및 이를 이용한 치료 장치 미국