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상세정보

등록 이온 또는 양성자 가속용 타겟 부재 및 그 제조 방법

이온 또는 양성자 가속용 타겟 부재 및 그 제조 방법
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발명자
신동호, 박형주, 조원배, 송동훈, 정문연, 이황운
출원번호
10-2012-0141372 (2012.12.06) KIPRIS
공개번호
10-2014-0073293 (2014.06.16)
등록번호
10-1984019-0000 (2019.05.24)
출원국
대한민국
협약과제
12MC1600, 종양치료용 레이저 이온 가속 시스템 원천 기술 개발, 김승환
초록
본 발명은 고분자 박막과 금속 나노 입자층이 일정한 간극을 두고 교대로 적층된 타겟으로, multi-cascade 이온 가속을 위한 적절한 다층막을 제공하며, 다층막을 통과하며 발생되는 이온 또는 양성자의 양을 추가시키고 단계적으로 가속 에너지를 증가시키는 등의 효과를 갖는 이온 또는 양성자 가속용 타겟 부재 및 그 제조 방법에 관한 것이다. 이를 위해 본 발명에 따른 이온 또는 양성자 가속용 타겟 부재 및 그 제조 방법은 이온 또는 양성자가 발생되는 타겟에 있어서 두께가 수 nm ~ 수십 nm로 이루어진 고분자 박막 및 직경이 수 nm ~ 수십 nm로 이루어진 금속 나노 입자층으로 구성되고, 고분자 박막과 금속 나노 입자층이 교대로 적층된 다층막인 것을 특징으로 한다.
KSP 제안 키워드
Proton acceleration