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상세정보

등록 질화물 반도체 소자의 제조 방법

질화물 반도체 소자의 제조 방법
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발명자
고상춘, 문재경, 장우진, 문석환, 장우영, 박영락, 나제호, 장현규, 김정진, 전치훈, 남은수, 배성범
출원번호
14310784 (2014.06.20)
공개번호
20150187599 (2015.07.02)
등록번호
9159583 (2015.10.13)
출원국
미국
협약과제
13VB1700, 차세대 데이터센터용 에너지절감 반도체 기술, 남은수
초록
Provided is a method of manufacturing a nitride semiconductor device. The method includes forming a plurality of electrodes on a growth substrate on which first and second nitride semiconductor layers are sequentially stacked, forming upper metal layers on the plurality of electrodes respectively, removing the growth substrate to expose a lower surface of the first nitride semiconductor layer, and forming a third nitride semiconductor layer and a lower metal layer sequentially on the exposed lower surface of the first nitride semiconductor layer.
KSP 제안 키워드
metal layer, nitride semiconductor, semiconductor device, semiconductor layers