A novel sensing gap reconfigurable capacitive type MEMS accelerometer with high sensitivity and high resolution is designed, fabricated and characterized. The present MEMS accelerometer is fabricated by using simple SOI processDRIE. However, conventional Silicon on Insulator (SOI) process is hard to make patterns which is smaller than 1 um because of its high aspect ratio and ICP etching error such as loading-effect and under-cutting. So we have adopted a simple idea of the MEMS actuator-stopper system to modulate the sensing gap precisely. Unlike previous capacitive type MEMS accelerometer which has an anchored reference comb electrodes, the proposed accelerometer has a movable reference comb with MEMS electrostatic actuators and stoppers. By simply applying DC bias to MEMS actuators, the reference comb electrode is moved to the sensing comb structure until the actuators contacting the stoppers. The gap between sensing comb fingers and reference comb fingers is reduced by the gap between actuators and stoppers. In this paper, the initial sensing gap is 1.5um and it reduced to 0.5um, when working. Then, the overall capacitance and sensitivity is simple increased. The capacitance is increased from 3.47pF at the OFF state to 5.35pF at the ON state by applying 2V DC bias.
키워드
Acceleration, Accelerometer, Capacitive, MEMS, Microelectromechanical system
KSP 제안 키워드
Capacitive-type, Electrostatic actuators, High Sensitivity, High aspect ratio, High-resolution, ICP etching, MEMS accelerometers, MEMS actuators, Micro-electro-mechanical system(MEMS), Off-State, Silicon On Insulator(SOI)
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<출처표시방법 안내> 작성자, 저작물명, 출처, 권호, 출판년도, 이용조건 [예시1] 김진미 외, "매니코어 기반 고성능 컴퓨팅을 지원하는 경량커널 동향", 전자통신동향분석, 32권 4호, 2017, 공공누리 제4유형 [예시2] 심진보 외, "제4차 산업 혁명과 ICT - 제4차 산업 혁명 선도를 위한 IDX 추진 전략", ETRI Insight, 2017, 공공누리 제 4유형
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