An electro-plating technology on a cured isotropic conductive pattern with a hybrid Cu paste composed ofresin matrix, copper, and solder powders has been developed. In a conventional technology, Ag paste was used to performa conductive pattern on a PCB or silicon substrate. From previous research, the electrical conductive mechanism and principleof the hybrid Cu paste were concisely investigated. The isotropic conductive pattern on the PCB substrate was performedusing screen-printing technology. The optimum electro-plating condition was experimentally determined byprocessing parameters such as the metal content of the hybrid Cu paste, applied current density, and time for the electroplatingin the plating bath. The surfaces and cross-sections were observed using optical and SEM photographs. In conclusion,the optimized processing conditions for Cu electro-plating technology on the conductive pattern were a currentdensity of 40mA/cm2 and a plating time of 20min on the hybrid Cu paste with a metal content of 44 vol.%. More detailsof the mechanical properties and processing conditions will be investigated in further research.
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<출처표시방법 안내> 작성자, 저작물명, 출처, 권호, 출판년도, 이용조건 [예시1] 김진미 외, "매니코어 기반 고성능 컴퓨팅을 지원하는 경량커널 동향", 전자통신동향분석, 32권 4호, 2017, 공공누리 제4유형 [예시2] 심진보 외, "제4차 산업 혁명과 ICT - 제4차 산업 혁명 선도를 위한 IDX 추진 전략", ETRI Insight, 2017, 공공누리 제 4유형
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