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학술대회 Simulation Studies of Triple Gate Trench Power MOSFETs (TGRMOSs) by Using Modified Resurf Stepped Oxide (RSO) Process with Various Gate Configuration and its Bias Condition
Cited - time in scopus Download 0 time Share share facebook twitter linkedin kakaostory
저자
나경일, 원종일, 박건식, 구진근, 김상기, 박종문, 유성욱, 양일석, 이진호
발행일
201302
출처
한국 반도체 학술 대회 (KCS) 2013, pp.1-2
협약과제
13VB2300, BLDC 모터용 고전압/대전류 파워모듈 및 ESD 기술개발, 양일석
KSP 제안 키워드
Simulation study, Triple-gate, trench power MOSFETs