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Journal Article 상 변화 메모리 재료 내의 Ga 주입에 미치는 GaGe 스퍼터링 전력의 영향
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Authors
정순원, 이승윤
Issue Date
2015-05
Citation
전기전자재료학회논문지, v.28, no.5, pp.277-284
ISSN
1226-7945
Publisher
한국전기전자재료학회
Language
Korean
Type
Journal Article
DOI
https://dx.doi.org/10.4313/JKEM.2015.28.5.285
Abstract
상 변화 메모리를 구성하는 활성물질인 상 변화 메모리 재료는 에너지 입력에 따라 가역적으로 상이 전이되는 특징을 가지고 있으며 Ga 첨가에 의해 결정화 온도가 상승하고 비정질 안정성이 높아지는 특성을 나타낸다. 본 연구에서는 Ga을 포함하는 상 변화 메모리 재료의 형성에 GaGe 스퍼터링 전력이 미치는 영향을 고찰하였다. GaGe 스퍼터링 전력이 0에서 75 W까지의 범위에서 증가함에 따라 박막의 증착 속도는 최대 약 127 nm까지 선형적으로 증가하고 표면 거칠기는 일정하게 유지되었다. 박막에 포함되는 Ga의 농도는 60 W의 임계 전력 이상에서 급격하게 증가하는 현상이 관찰되었다. 이러한 GaGe 스퍼터링 전력의 효과는 29.77℃인 Ga의 낮은 녹는점에 의해 스퍼터링과 더불어 Ga 증발이 동시에 발생하여 나타나는 결과임을 확인하였다.
This work is distributed under the term of Creative Commons License (CCL)
(CC BY NC)
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