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Conference Paper 고밀도 플라즈마를 이용한 TaN/HfO2HfO2 게이트 구조의 식각 특성
Cited - time in scopus Share share facebook twitter linkedin kakaostory
Authors
김관하, 김창일, 장명수, 이주욱, 김상기, 구진근, 강진영
Issue Date
2007-06
Citation
한국전기전자재료학회 학술 대회 (하계) 2007, pp.158-159
Publisher
한국전기전자재료학회
Language
Korean
Type
Conference Paper