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학술대회
A Study on the Physical and Electrical Properties of Indium Oxide/Zinc Oxide Heterostructured Thin Films Deposited by Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition
Cited - time in 
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- 발행일
- 201512
- 출처
- International Conference on Advanced Materials and Devices (ICAMD) 2015, pp.1-1
- 협약과제
- 15PB3800, 구동 변위 10% 이상의 촉감과 3단계 이상의 질감 표현이 가능한 센싱과 구동 기능의 멀티터치센서 기초원천기술 개발, 안성덕
- KSP 제안 키워드
- Plasma-enhanced atomic layer deposition, Zinc oxide(ZnO), electrical properties(I-V curve), indium oxide, thin film(TF)