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학술지 Effects of Metal Silicide/Silicon Interface Trap Distribution on Schottky Barrier MOSFET Devices
Cited - time in scopus Download 2 time Share share facebook twitter linkedin kakaostory
저자
조원주, 안창근
발행일
200712
출처
Journal of the Korean Physical Society, v.51, pp.S313-S317
ISSN
0374-4884
출판사
한국물리학회 (KPS)
협약과제
07MB2700, 유비쿼터스 건강관리용 모듈 시스템, 박선희
KSP 제안 키워드
Interface trap distribution, Metal silicide, Schottky Barrier MOSFET, Silicon interface