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학술지 Effect of Post-Annealing on Low-Temperature Solution-Processed High-Performance Indium Oxide Thin Film Transistors
Cited - time in scopus Download 13 time Share share facebook twitter linkedin kakaostory
저자
오연화, 김훈, 백규하, 도이미, 이가원, 강찬모
발행일
201804
출처
Science of Advanced Materials, v.10 no.4, pp.518-521
ISSN
1947-2935
출판사
American Scientific Publishers
DOI
https://dx.doi.org/10.1166/sam.2018.3054
협약과제
15PC2500, 150ºC이하 인쇄기반 플렉세블 디스플에이 백플레인용 산화물 반도체, 절연체 잉크소재 및 공정 기술 개발, 도이미
KSP 제안 키워드
High performance, Low temperature(LT), Oxide thin films, Post-annealing, Solution-processed, Thin-Film Transistor(TFT), indium oxide, thin film(TF)