Zinc oxysulfide (Zn(O,S)) is widely used for photovoltaic and optoelectronic devices because its electronic properties are tunable with adjustments to the S-to-O composition ratio. Zn(O,S) thin films used in devices are typically assumed to have constant S-to-O composition ratios across their thicknesses. However, S-to-O composition ratio gradients, and thus electronic property variations along the vertical direction, can be naturally induced. Such gradients can enhance device performance. In this work, we analyzed the S-to-O composition ratios along the thickness directions of Zn(O,S) thin films deposited at a fixed O2 gas flux. Natural O enrichment was observed near the bottom of the film, attributed to the highly reactive nature of the sputtering process. By increasing O2 gas flux during sputtering, more compositionally uniform thin films were obtained. We suggest that non-uniform phase distribution in the depth direction could be considered for achieving desired composition ratios when depositing Zn(O,S) thin films using reactive sputtering.
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<출처표시방법 안내> 작성자, 저작물명, 출처, 권호, 출판년도, 이용조건 [예시1] 김진미 외, "매니코어 기반 고성능 컴퓨팅을 지원하는 경량커널 동향", 전자통신동향분석, 32권 4호, 2017, 공공누리 제4유형 [예시2] 심진보 외, "제4차 산업 혁명과 ICT - 제4차 산업 혁명 선도를 위한 IDX 추진 전략", ETRI Insight, 2017, 공공누리 제 4유형
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