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기타 Highly Stable Oxide Semiconductor TFTs deposited by High Density Plasma
Cited - time in scopus Download 0 time Share share facebook twitter linkedin kakaostory
저자
조성행
발행일
201602
출처
중국 BOE, pp.1-46
협약과제
15PB1900, 폭 1500mm 플렉서블 기판에 산화물 박막 트랜지스터 증착을 위한 스퍼터 장비 실용화 기술 개발, 조성행
KSP 제안 키워드
High density plasma, Highly stable, Oxide semiconductor