Herein, we introduce a method to simultaneously photoadhere a photocrosslinkable polymer to a plasma-treated fluoropolymer while photopatterning the photocrosslinkable혻polymer via a single-photo-exposure as a new electrode passivation technique. Photoadhesion was determined to result from plasma-generated radicals of the plasma-treated fluoropolymer. Crystallinity of the fluoropolymer was analysed to determine the photoadhesion strength through its effects on both the formation of radicals and the etching of fluoropolymers. Passivation feasibility of simultaneous photoadhesion and photopatterning (P&P) technique were demonstrated by fabricating an Au electrocorticography electrode array and modifying the electrode with electro-deposited metallic nanoparticles. Adhesion of sputter-deposited Au to the fluoropolymer was dependent on mechanical interlocking, indicated by the formation of Au clusters which are typically influenced by the surface temperature during the sputter-deposition and the glass transition temperature of the fluoropolymer. The adhesion of Au to the fluoropolymer without an additional adhesion promotor and the proposed P&P passivation technique would help prevent detachment of the electrode and the delamination of the passivation layer in fluoropolymer-based neural electrode.
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<출처표시방법 안내> 작성자, 저작물명, 출처, 권호, 출판년도, 이용조건 [예시1] 김진미 외, "매니코어 기반 고성능 컴퓨팅을 지원하는 경량커널 동향", 전자통신동향분석, 32권 4호, 2017, 공공누리 제4유형 [예시2] 심진보 외, "제4차 산업 혁명과 ICT - 제4차 산업 혁명 선도를 위한 IDX 추진 전략", ETRI Insight, 2017, 공공누리 제 4유형
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