N-type bismuth telluride (Bi2Te3) thin films were prepared on an aluminum nitride (AlN)-coated stainless steel foil substrate to obtain optimal thermoelectric performance. The thermal co-evaporation method was adopted so that we could vary the thin film composition, enabling us to investigate the relationship between the film composition, microstructure, crystal preferred orientation and thermoelectric properties. The influence of the substrate temperature was also investigated by synthesizing two sets of thin film samples; in one set the substrate was kept at room temperature (RT) while in the other set the substrate was maintained at a high temperature, of 300혻°C, during deposition. The samples deposited at RT were amorphous in the as-deposited state and therefore were annealed at 280혻°C to promote crystallization and phase development. The electrical resistivity and Seebeck coefficient were measured and the results were interpreted. Both the transport properties and crystal structure were observed to be strongly affected by non-stoichiometry and the choice of substrate temperature. We observed columnar microstructures with hexagonal grains and a multi-oriented crystal structure for the thin films deposited at high substrate temperatures, whereas highly (00혻l) textured thin films with columns consisting of in-plane layers were fabricated from the stoichiometric annealed thin film samples originally synthesized at RT. Special emphasis was placed on examining the nature of tellurium (Te) atom based structural defects and their influence on thin film properties. We report maximum power factor (PF) of 1.35 mW/m혻K2 for near-stoichiometric film deposited at high substrate temperature, which was the highest among all studied cases.
KSP 제안 키워드
Aluminum Nitride(AlN), As-deposited, Bismuth telluride, Evaporation method, Field effect transistors(Substrate temperature), Film composition, High Temperature, High substrate temperature, I-V characteristic(Transport property), In-plane, N-type
본 저작물은 크리에이티브 커먼즈 저작자 표시 (CC BY) 조건에 따라 이용할 수 있습니다.
저작권정책 안내문
한국전자동신연구원 지식공유플랫폼 저작권정책
한국전자통신연구원 지식공유플랫폼에서 제공하는 모든 저작물(각종 연구과제, 성과물 등)은 저작권법에 의하여 보호받는 저작물로 무단복제 및 배포를 원칙적으로 금하고 있습니다. 저작물을 이용 또는 변경하고자 할 때는 다음 사항을 참고하시기 바랍니다.
저작권법 제24조의2에 따라 한국전자통신연구원에서 저작재산권의 전부를 보유한 저작물의 경우에는 별도의 이용허락 없이 자유이용이 가능합니다. 단, 자유이용이 가능한 자료는 "공공저작물 자유이용허락 표시 기준(공공누리, KOGL) 제4유형"을 부착하여 개방하고 있으므로 공공누리 표시가 부착된 저작물인지를 확인한 이후에 자유이용하시기 바랍니다. 자유이용의 경우에는 반드시 저작물의 출처를 구체적으로 표시하여야 하고 비영리 목적으로만 이용이 가능하며 저작물을 변형하거나 2차 저작물로 사용할 수 없습니다.
<출처표시방법 안내> 작성자, 저작물명, 출처, 권호, 출판년도, 이용조건 [예시1] 김진미 외, "매니코어 기반 고성능 컴퓨팅을 지원하는 경량커널 동향", 전자통신동향분석, 32권 4호, 2017, 공공누리 제4유형 [예시2] 심진보 외, "제4차 산업 혁명과 ICT - 제4차 산업 혁명 선도를 위한 IDX 추진 전략", ETRI Insight, 2017, 공공누리 제 4유형
공공누리가 부착되지 않은 자료들을 사용하고자 할 경우에는 담당자와 사전협의한 이후에 이용하여 주시기 바랍니다.