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학술대회 Importance of contact resistance on the device mobility of ultra-thin indium oxide formed by atomic layer deposition
Cited - time in scopus Download 0 time Share share facebook twitter linkedin kakaostory
저자
이주훈, 강승열, 성치훈, 양종헌, 황치선, 문제현
발행일
202305
출처
Compound Semiconductor Week (CSW) 2023, pp.611-612
협약과제
23JC1100, 초고해상도/초유연 디스플레이 백플레인 핵심소재 기술 개발, 황치선
KSP 제안 키워드
Atomic Layer Deposition, Contact resistance(73.40.Cg), Ultra-thin, indium oxide