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학술지 Characteristics of Ultrathin Indium Oxide Thin-Film Transistors with Diverse Channel Lengths Fabricated by Atomic Layer Deposition
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저자
이주훈, 강승열, 양종헌, 피재은, 황치선, 문제현
발행일
202311
출처
Physica Status Solidi (B): Basic Research, v.권호미정, pp.1-6
ISSN
0370-1972
출판사
John Wiley & Sons Ltd.
DOI
https://dx.doi.org/10.1002/pssb.202300323
협약과제
23JC1100, 초고해상도/초유연 디스플레이 백플레인 핵심소재 기술 개발, 황치선
KSP 제안 키워드
Atomic Layer Deposition, Thin-Film Transistor(TFT), indium oxide, oxide thin-film transistors, thin film(TF)
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