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학술지 Effect of the Post-Annealing Temperature on the Interfacial Reaction Between a High Tc Superconductor and Topological Insulator
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저자
이우정, 황태하, 조대형, 정광식, 임소영, 김리나, 정용덕
발행일
202404
출처
Advanced Electronic Materials, v.권호미정, pp.1-9
ISSN
2199-160X
출판사
Wiley-VCH Verlag
DOI
https://dx.doi.org/10.1002/aelm.202300870
KSP 제안 키워드
Annealing temperature, Interfacial reaction, Post-annealing, Topological Insulator, high-Tc superconductors
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