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Conference Paper
CMP MRR 모델링을 위한 센서 패턴 기반 Wafer-Stage 데이터 이질성 분석 및 군집화 방법 비교
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- Issue Date
- 2026-07
- Citation
- 반도체공학회 학술 대회 (하계) 2026, pp.1-2
- Publisher
- 반도체공학회
- Language
- Korean
- Type
- Conference Paper
- Abstract
- CMP 공정에서 MRR은 주요 성능 지표이다. 그러나 실시간 직접 측정이 어려워 센서 데이터 기반 가상 계측이 요구된다. 본 연구는 MRR 모델링 전 단계에서 2016 PHM Challenge CMP 데이터셋의 Wafer-Stage 센서 데이터 이질성을 분석하기 위해 K-Means, Agg.-Ward, B-GMM, PCA-GMM 군집화 방법을 적용·비교하였다. 평가 결과, 방법별로 응집도, MRR/공정 시간 효과크기, 재분류율에서 서로 다른 특성이 나타났다. 이는 CMP MRR 모델링 전에 데이터 이질성을 진단하고, 목적에 맞는 그룹화 기준을 선택할 필요가 있음을 보여준다.
- Keyword
- CMP, MRR, Data heterogeneity, Clustering, Virtual metrology
- KSP Keywords
- Data heterogeneity, K-Means, Virtual Metrology