주제어 : Field emission Auger electron spectroscopy
구분 | 연도 | 논문 | 피인용 | 원문 |
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학술지 | 2014 | The Fabrication of an Applicative Device for Trench Width and Depth Using Inductively Coupled Plasma and the Bulk Silicon Etching Process 우종창 Transactions on Electrical and Electronic Materials, v.15 no.1, pp.49-54 | 0 | 원문 |
구분 | 출원 | 특허 | 출원국 | 패밀리 | KIPRIS |
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구분 | 연도 | 보고서 | 책임자 | 원문 |
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