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Registered 보호막 형성 방법
- Application No.
- 10-2005-0060919 (2005.07.06) KIPRIS
- Publication No.
- 10-2005-0078252 (2005.08.04)
- Registration No.
- 10-0508990-0000 (2005.08.10)
- Country
- KOREA
- Project Code
- 02MM1200, Development of High-luminance Full Color Thin Film ELD, Sun Jin Yun
- Abstract
- 본 발명은 보호막의 구성원소를 포함하는 전구체들간의 표면화학반응을 통하여 원자층증착법으로 보호막을 형성하는 평판 디스플레이 소자의 기판에 사용될 수 있는 보호막 형성 방법에 관한 것이다.본 발명은 보호막을 형성하기 위해 플라스틱 기판을 챔버 내에 배치하는 단계; 상기 보호막을 구성하는 원소를 포함하는 전구체들을 상기 챔버에 주입하는 단계; 상기 전구체들간의 표면화학반응을 통하여 원자층 증착법으로 20 내지 220℃ 의 온도에서 무기절연막의 보호막을 형성하는 단계; 및 상기 보호막이 형성된 상기 플라스틱 기판 상에 평판 디스플레이 소자를 제조하는 단계를 포함하되, 상기 무기절연막의 보호막은 상기 플라스틱 기판의 상, 하 및 측면들 모두에 형성하는 것을 특징으로 하는 보호막 형성 방법을 제공한다.이러한 구성을 통하여, 저온에서 양질의 보호막을 비교적 간단한 공정으로 제조할 수 있어, 유기발광소자 또는 디지털페이퍼 등 수분 및 산소에 민감한 소자의 보호막으로 이용하면 소자의 수명을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.