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Registered 멤스 구조체 제조 방법
- Application No.
- 10-2007-0126806 (2007.12.07) KIPRIS
- Publication No.
- 10-2009-0059771 (2009.06.11)
- Registration No.
- 10-0925483-0000 (2009.10.30)
- Country
- KOREA
- Project Code
- 07MB2500, Development of CMOS based MEMS processed multi-functional sensor for ubiquitous environment, Chang Auck Choi
- Abstract
- 본 발명은 폴리이미드 박막을 희생층으로 사용하는 멤스 구조체의 제작과정에 있어 엥커 공정시에 격자형태의 더미 패턴을 형성하여 균열을 방지하는 방법에 관한 것이다. 본 발명의 멤스 구조체 제조 방법은, (a) 기판을 형성하는 단계; 및 (b) 다수개의 비워진 영역이 구비된 형태의 희생층을 상기 기판 상에 형성하고, 상기 비워진 영역에 소자를 형성하는 단계를 포함하되, 상기 희생층의 상기 각 비워진 영역들 사이에 적어도 일방향의 격자 홈들이 위치하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의해 제안된 방법을 이용함으로써 멤스 구조체의 균열 현상을 줄일 수 있으며 이를 이용하여 더욱 얇은 두께를 가지는 멤스 구조체를 제조하는 것이 현저히 용이해진다.