상세정보
등록 실리콘 포토멀티플라이어 및 그 제조 방법
- 출원번호
- 10-2008-0122019 (2008.12.03) KIPRIS
- 공개번호
- 10-2010-0063479 (2010.06.11)
- 등록번호
- 10-1057658-0000 (2011.08.11)
- 출원국
- 대한민국
- 협약과제
- 08ZB1100, 반도체 Foundry 운영사업, 김보우
- 초록
- 본 발명은 평판형 구조를 가지면서, 각 마이크로픽셀 간을 효과적으로 격리시켜 동작의 정확성 및 안정성을 높인 실리콘 포토멀티플라이어 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 상기 실리콘 포토멀티플라이어는, 기판과, 상기 기판의 상부에 형성되어 입력광에 의한 전류의 생성 및 증폭이 이루어지는 활성층과, 상기 활성층 보다 더 깊게 형성되고, 전기적 절연 및 광반사 기능을 갖는 물질로 내부가 매립되어, 인접한 마이크로픽셀의 활성층 간의 누화(Cross talk)를 방지하는 트렌치와, 상기 활성층의 상부면에 각각 형성된 애노드 전극 및 캐소드 전극과, 상기 활성층의 애노드 전극 및 캐소드 전극이 형성되지 않은 나머지 상부면에 형성된 절연층을 포함하여 이루어진다. 실리콘 포토멀티플라이어(SIPM), 평판형, 트렌치 공법, 애벌런치 효과