상세정보
등록 저항형 메모리 장치 및 그 제조 방법
- 출원번호
- 10-2009-0119776 (2009.12.04) KIPRIS
- 공개번호
- 10-2011-0062908 (2011.06.10)
- 등록번호
- 10-1361658-0000 (2014.02.05)
- 출원국
- 대한민국
- 협약과제
- 08IB2300, 고신뢰성 charge complex 소재 탐색, 최성율
- 초록
- 본 발명은 저항형 메모리 장치 및 그 제조 방법을 제공한다. 이 저항형 메모리 장치에 의하면, 메모리 셀을 다층으로 배치하여 고집적화에 유리하다. 또한, 인접한 층의 서로 평행한 도전라인들이 서로 수직적으로 중첩되지 않도록 배치하여, 프로그램/소거와 같은 동작시 발생되는 오류를 감소시킬 수 있다.
- 패밀리
| 구분 | 특허 | 출원국 | KIPRIS |
|---|---|---|---|
| 등록 | 다층 비휘발성 기억소자 및 그 제조방법 | 미국 | |
| 등록 | 저항형 메모리 장치 및 그 제조 방법 | 미국 |