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Registered APPARATUS FOR GENERATING CHARGED PARTICLE
- Inventors
- Jung Moon Youn, Kim Tae Yi
- Application No.
- 10-2017-0078729 (2017.06.21) KIPRIS
- Publication No.
- 10-2018-0054410 (2018.05.24)
- Registration No.
- 10-2285919-0000 (2021.07.29)
- Country
- KOREA
- Abstract
- 하전 입자 발생 장치는 레이저를 방출하는 광원부, 레이저를 수용하여 하전 입자를 방출하는 타겟층, 및 광원부와 타겟층 사이에 배치되어, 레이저를 집속시키는 포커싱 구조체를 포함하되, 포커싱 구조체는 타겟층의 상면에 평행한 제1 방향을 따라 교대로 그리고 반복적으로 배치되는 솔리드 막들 및 공극부들을 포함하고, 공극부들의 각각은 다공성 막을 포함한다.