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등록 전력 반도체 소자의 제조 방법

전력 반도체 소자의 제조 방법
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발명자
노태문, 김상기, 구진근, 임병원, 유성욱, 박종문, 박건식
출원번호
10-2017-0086652 (2017.07.07) KIPRIS
공개번호
10-2019-0006146 (2019.01.17)
등록번호
10-2238755-0000 (2021.04.05)
출원국
대한민국
협약과제
16HB1500, 에지종단 향상기술을 적용한 650V/20A급 SiC 다이오드 개발, 노태문
초록
본 발명은 전력 반도체 소자의 제조방법에 관한 것으로, 기판의 상부에 이온주입 영역 및 이온주입 영역의 적어도 일부를 둘러싸는 가드링 영역을 형성하는 것, 기판 상에 이온주입 영역 및 가드링 영역을 덮는 제1 절연막을 형성하는 것, 제1 절연막을 열처리하는 것 및 제1 절연막 상에 제1 절연막 보다 두꺼운 제2 절연막을 형성하는 것을 포함하되, 기판은 실리콘 카바이드를 포함하고, 열처리는 질소(N) 원소를 포함하는 가스를 이용하여 수행되는 전력 반도체 소자의 제조방법이 제공된다.
KSP 제안 키워드
Power semiconductor, power semiconductor devices, semiconductor device