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Registered 파장 가변 레이저 장치 및 이를 제조하는 방법

파장 가변 레이저 장치 및 이를 제조하는 방법
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Inventors
안신모, 김남제, 박미란, 권오균, 한원석
Application No.
10-2017-0173631 (2017.12.15) KIPRIS
Publication No.
10-2019-0072355 (2019.06.25)
Registration No.
10-2368946-0000 (2022.02.24)
Country
KOREA
Project Code
17MB1100, Development of D-RoF link technologies for 5G fronthaul , Kwon O-Kyun
Abstract
파장 가변 레이저 장치는 하부 클래드 막, 하부 클래드 막 상에 제공되되, 하부 클래드 막의 상면에 평행한 제1 방향으로 배열되는 제1 내지 제3 양자 우물 패턴들, 제1 양자 우물 패턴 상에 제공된 상부 클래드 막, �제3 양자 우물 패턴과 하부 클래드 막 사이에 제공되는 제1 격자 패턴들을 포함하되, 제1 내지 제3 양자 우물 패턴들은 하부 클래드 막의 상면에 평행한 제1 방향으로 배열되고, 상부 클래드 막의 도전형은 p형이고, 하부 클래드 막의 도전형은 n형이며, 제3 양자 우물 패턴은 전기적으로 진성(intrinsic)이고, 상부 클래드 막, 제3 양자 우물 패턴, 및 하부 클래드 막에 역방향 바이어스가 인가되어, 제3 양자 우물 패턴의 굴절률을 바꿀 수 있다.