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Registered APPARATUS FOR GENERATING CHARGED PARTICLE AND TARGET STRUCTURE FOR GENERATING CHARGED PARTICLE

하전 입자 발생 장치 및 타겟 구조체
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Inventors
Kim Tae Yi, Jung Moon Youn
Application No.
10-2018-0090939 (2018.08.03) KIPRIS
Publication No.
10-2019-0029425 (2019.03.20)
Registration No.
10-2500672-0000 (2023.02.13)
Country
KOREA
Abstract
하전 입자 발생 장치는 레이저를 방출하는 광원부, 상기 레이저를 수용하여 하전 입자를 방출하는 타겟층 및 타겟층 상에 배치되어 상기 레이저를 집속시키는 포커싱 구조체를 포함하되, 상기 포커싱 구조체는 상기 타겟층의 상면 상에서 상기 타겟층과 멀어지는 방향으로 연장된 솔리드 막들 및 상기 솔리드 막들의 사이에 배치되고 다공성 구조를 갖는 공극부를 포함하고, 상기 포커싱 구조체는 탄소보다 원자번호가 높은 물질을 포함한다.
KSP Keywords
Charged particles