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Registered Photomultiplier and manufacturing method thereof

포토멀티플라이어 및 그 제조방법
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Inventors
Jin Hwa Ryu, Yoon Yong Sun, Kim Yark Yeon, Baek In Bok, Bong Kuk Lee, Yu Han Young
Application No.
10-2018-0050168 (2018.04.30) KIPRIS
Publication No.
10-2019-0125847 (2019.11.07)
Registration No.
10-2473706-0000 (2022.11.29)
Country
KOREA
Abstract
본 발명은 기판; 상기 기판 상에 제공되고, 제1 영역 및 상기 제1 영역을 평면적으로 둘러싸는 제2 영역을 포함하는 매몰층; 상기 제1 영역 상의 활성층; 상기 제2 영역 상에 제공되고, 상기 활성층을 격리하는 트렌치 절연체; 및 상기 활성층 상의 제1 부분 및 상기 트렌치 절연체 상의 제2 부분을 포함하는 소멸 저항을 포함한다. 상기 제1 부분은 상기 활성층의 상면과 접촉한다.
KSP Keywords
Manufacturing method