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등록 분리막의 표면처리 방법

분리막의 표면처리 방법
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발명자
김주영, 이영기, 신동옥, 김광만
출원번호
10-2018-0084993 (2018.07.20) KIPRIS
공개번호
10-2020-0009924 (2020.01.30)
등록번호
10-2583829-0000 (2023.09.22)
출원국
대한민국
협약과제
17PB7100, 덴드라이트 억제를 위한 이온분포제어형 전해질 및 미세패턴 전극기술 기반 리튬금속 이차전지 기술 개발, 이영기
초록
분리막의 표면처리 방법은 이차원 물질을 산 또는 염기 처리하여 친수성 이차원 물질을 제조하는 것, 상기 친수성 이차원 물질을 유기용매에 분산시켜 용액을 만드는 것, 상기 용액을 소수성 분리막 상에 도포시키는 것, 및 상기 도포된 용액 내의 유기용매를 제거하여, 상기 소수성 분리막 상에 친수성 이차원 물질층을 형성하는 것을 포함한다.
KSP 제안 키워드
Surface treatment method, Surface treatments, Treatment method