Conference
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2019 |
Fabrication and Characterization of 5000V class 4-inch Light Triggered Thyristor
조두형
전력전자학회 학술 대회 (하계) 2019, pp.230-232 |
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Journal
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2019 |
Low-Crosstalk Silicon Nitride Arrayed Waveguide Grating for the 800-nm Band
Jaegyu Park
IEEE Photonics Technology Letters, v.31, no.14, pp.1183-1186 |
12 |
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Journal
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2017 |
A Study on N2O Direct Oxidation Process with Re-oxidation Annealing for the Improvement of Interface Properties in 4H-SiC MOS Capacitor
Doohyung Cho
Journal of the Korean Physical Society, v.71, no.3, pp.150-155 |
5 |
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Conference
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2017 |
Study on Silicon Carbide JBS Diode Characteristics with Planar and Trench Structures
김상기
대한전자공학회 종합 학술 대회 (하계) 2017, pp.1665-1666 |
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Conference
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2016 |
A Comparison of ESD Protection Circuits using Low Trigger Techniques in 0.13 um CMOS Process
정진우
대한전자공학회 학술 대회 (추계) 2016, pp.200-203 |
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Conference
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2016 |
Fabrication of 1400 V 4H-SiC Trench JBS Diode with Low Leakage Current
원종일
한국세라믹학회 학술 대회 (추계) 2016, pp.1-1 |
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Conference
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2016 |
A Study on the Electrical Characteristics of 4H-SiC JBS Diode Depending on the Schottky Area
원종일
대한전자공학회 학술 대회 (추계) 2016, pp.1057-1058 |
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Conference
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2016 |
PNP 달링톤 구조를 이용한 GSTNMOS ESD 보호 회로에 관한 연구
정진우
대한전자공학회 학술 대회 (추계) 2016, pp.1054-1056 |
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Conference
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2016 |
Vertical SiC MOSFET fabrication using self-align process
박건식
한국세라믹학회 학술 대회 (추계) 2016, pp.1-1 |
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Conference
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2016 |
Fabrication and Measurement of 1700V Silicon Carbide Power Diode on 6-inch 4H-SiC Wafer
원종일
대한전자공학회 종합 학술 대회 (하계) 2016, pp.258-259 |
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Conference
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2016 |
Characteristic of 2.3kV 4H-SiC Diode using Multi Space Modulated JTE Technology
김상기
대한전자공학회 종합 학술 대회 (하계) 2016, pp.260-261 |
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Journal
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2013 |
Fabrication of Superjunction Trench Gate Power MOSFETs Using BSG-Doped Deep Trench of p-Pillar
Sang Gi Kim
ETRI Journal, v.35, no.4, pp.632-637 |
8 |
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Conference
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2013 |
제작 공정의 변화에 따른 트렌치 형태의 슈퍼베리어 다이오드의 전기적 특성 변화
나경일
대한전자공학회 종합 학술 대회 (하계) 2013, pp.1836-1838 |
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Conference
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2013 |
A Novel Super-Junction Trench Gate MOSFET Fabricated Using High Aspect-Ratio Trench Etching and Boron Lateral Diffusion Technologies
S.G. Kim
International Symposium on Power Semiconductor Devices and ICs (ISPSD) 2013, pp.233-236 |
4 |
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Conference
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2013 |
Simulation Studies of Triple Gate Trench Power MOSFETs (TGRMOSs) by Using Modified Resurf Stepped Oxide (RSO) Process with Various Gate Configuration and its Bias Condition
K.-I. Na
한국 반도체 학술 대회 (KCS) 2013, pp.1-2 |
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Conference
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2013 |
Sub-22 nm Silicon Template Nanofabrication by Advanced Spacer Patterning Technique for NIL Applications
Jong-Moon Park
Alternative Lithographic Technologies V (SPIE 8680), pp.1-8 |
0 |
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Conference
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2012 |
Study of Titanium Silicide with Tin Capping Layer
박종문
대한전자공학회 종합 학술 대회 (하계) 2012, pp.359-362 |
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Conference
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2012 |
Electrical Characteristics of RF LDMOS Device for Near Field Communication
유성욱
대한전자공학회 종합 학술 대회 (하계) 2012, pp.351-353 |
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Conference
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2011 |
Electrical Characteristics of High Voltage TDMOS using Recess Gate Process
Seong-Wook Yoo
International Conference on Advanced Electromaterials (ICAE) 2011, pp.1-1 |
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Conference
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2011 |
The Fabrication & Characteristcs of Lateral Cool IGBT Device
구진근
한국전기전자재료학회 학술 대회 (하계) 2011, pp.1-1 |
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Conference
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2011 |
트렌치 게이트 Power MOSFET의 고신뢰성 게이트 산화막 형성 연구
김상기
한국진공학회 학술 대회 (동계) 2011, pp.176-176 |
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Conference
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2009 |
Sidewall 산화막을 이용한 고밀도 트렌치게이트 Power MOSFET 제작
김상기
한국진공학회 학술 대회 (동계) 2009, pp.183-183 |
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Conference
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2008 |
A Study of NMOSFET Trench Gate Oxide Uniformity According to Voltage-current Characteristic
김상기
한국전기전자재료학회 학술 대회 (추계) 2008, pp.154-155 |
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Journal
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2008 |
Direct-Type Silicon Pixel Detector for a Large-Area Hybrid X-Ray Imaging Device
Kun-Sik Park
Journal of the Korean Physical Society, v.53, no.4, pp.2185-2191 |
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Conference
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2006 |
High Performance Silicon PIN Photodiode for Near-IR Spectral Range (2): Leakage Current and Photo-response Characteristics
박건식
한국반도체 학술 대회 (KCS) 2006, pp.241-243 |
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Conference
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2006 |
Fabrication & Caracteristics Analysis of Silicon Bipolar Phototransistor
박종문
한국반도체 학술 대회 (KCS) 2006, pp.1-3 |
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Conference
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2006 |
High Performance Silicon PIN Photodiode for Near-IR Spectral Range (1): Estimations of the Optimum Depletion Width for the Best Responsivity and Response Time
박건식
한국반도체 학술 대회 (KCS) 2006, pp.1-2 |
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Journal
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2002 |
Characterization of Via Etching in CHF3/CF4 Magnetically Enhanced Reactive Ion Etching Using Neural Networks
Sung Ku Kwon
ETRI Journal, v.24, no.3, pp.211-220 |
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