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Registered 가스 모니터링 장치 및 그를 포함하는 플라즈마 공정 설비

가스 모니터링 장치 및 그를 포함하는 플라즈마 공정 설비
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Inventors
윤선진, 임정욱, 이규성
Application No.
10-2014-0113902 (2014.08.29) KIPRIS
Publication No.
10-2015-0096622 (2015.08.25)
Registration No.
10-1871809-0000 (2018.06.21)
Country
KOREA
Project Code
13MB2100, Development of a-Si/SiGe tandem structure thin film solar cells of conversion efficiency 13% on flexible metal substrate, Sun Jin Yun
Abstract
본 발명은 공정 가스 모니터링 장치 및 그를 구비한 플라즈마 공정 설비를 개시한다. 그의 장치는, 가스 유입구, 가스 배출구, 및 윈도우들을 갖는 하우징과, 상기 윈도우들 중 어느 하나에 인접하여 상기 하우징 외부에 배치되고, 상기 가스 유입구 및 상기 가스 배출구 사이에 제공되는 가스에 소스 광을 제공하는 광원과,상기 윈도우들 중 나머지 하나에 인접하여 상기 하우징 외부에 배치되고, 상기 소스 광에 의해 상기 가스로부터 발광되는 형광을 감지하는 센서와, 상기 가스 유입구 및 상기 가스 배출구 사이의 상기 하우징 내에 배치되고, 상기 광원 및 상기 센서 사이의 상기 가스를 가열하여 상기 가스로부터의 상기 형광을 증가시키는 코일을 포함한다..
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Status Patent Country KIPRIS
Registered APPARATUS FOR MONITORING GAS AND PLASMA PROCESS EQUIPMENT INCLUDING THE SAME UNITED STATES