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Detail
Registered Method for forming a three dimensional structure
- Inventors
- Park Jonghyurk, Jae-Eun Pi, Hwang Chi-Sun
- Application No.
- 10-2015-0025280 (2015.02.23) KIPRIS
- Publication No.
- 10-2016-0103232 (2016.09.01)
- Registration No.
- 10-2277446-0000 (2021.07.08)
- Country
- KOREA
- Project Code
- 14MB1400, The core technology development of light and space adaptable energy-saving I/O (Input/Output) platform for future advertising service, Hwang Chi-Sun
- Abstract
- 본 발명은 용액 공정을 통한 실리콘 기반의 3차원 구조체의 형성 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 기판 상에 유기 실리콘 전구체를 제공하여, 유기 실리콘 패턴을 형성하는 것; 및 상기 유기 실리콘 패턴에 자외선을 조사하여, 실리콘 산화물 패턴을 형성하는 것을 포함할 수 있다. 이때, 상기 유기 실리콘 전구체는 20℃ 및 1기압 하에서 1.0 cP 내지 1.0×107 cP의 점도를 갖고, 상기 유기 실리콘 패턴과 상기 실리콘 산화물 패턴은 실질적으로 동일한 크기를 가질 수 있다.
- KSP Keywords
- Three dimensional(3D), Three-dimensional structure, dimensional structure