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Detail
Registered HIGH ELECTRON MOBILITY TRANSISTOR AND FABRICATION METHOD THEREOF
- Inventors
- Hokyun Ahn, Eun Soo Nam, Jong-Won Lim, Kim Seong-Il, Kim Dong-Young, Min Byoung-Gue, Jung Hyunwook, Kwon Yong-Hwan, Lee Sang-Heung, Jae Won Do, Kyu Jun Cho, Hae Cheon Kim, Hyung Sup Yoon, Dong Min Kang, Jongmin Lee
- Application No.
- 10-2016-0016435 (2016.02.12) KIPRIS
- Publication No.
- 10-2017-0095455 (2017.08.23)
- Registration No.
- 10-2208076-0000 (2021.01.21)
- Country
- KOREA
- Project Code
- 15MB1800, Development of High Efficiency GaN-based Key Components and Modules for Base and Mobile Stations, Jong-Won Lim
- Abstract
- 본 발명의 실시예에 따른 고전자 이동도 트랜지스터는 서로 마주보는 제1면과 제2 면을 포함하고, 상기 제1 면과 상기 제2 면을 관통하는 비아홀을 구비한 기판과, 상기 기판의 제1 면 상에 제공된 활성층과, 상기 활성층 상에 위치하고 상기 활성층의 일부를 노출하는 게이트 리쎄스 영역을 포함한 캡층과, 상기 캡층 상에 위치하며 상기 캡층 및 상기 활성층 중 어느 하나의 층에 오믹 접촉한 소스 전극과, 상기 캡층 상에서 상기 소스 전극으로부터 이격되며 상기 캡층에 오믹 접촉한 드레인 전극과, 상기 소스 전극과 상기 드레인 전극 상에 위치하고 상기 게이트 리쎄스 영역에 대응되는 개구부를 구비하여 상기 게이트 리쎄스 영역을 노출시키는 절연층과, 상기 절연층 상에서 상기 소스 전극과 상기 드레인 전극 사이에 위치한 제1 전계 전극과, 상기 절연층 상에서 상기 제1 전계 전극과 전기적으로 연결된 게이트 전극 및 상기 기판의 제2 면 상에 제공되며 상기 비아홀을 통해 상기 활성층과 접촉되는 제2 전계 전극을 포함한다.
- Family
| Status | Patent | Country | KIPRIS |
|---|---|---|---|
| Registered | HIGH ELECTRON MOBILITY TRANSISTOR AND FABRICATION METHOD THEREOF | UNITED STATES |