15PB2100, 차세대 반도체소자용 에피성장 측정·분석 및 전력반도체 원천기술 개발,
배성범
초록
본 발명은 질화물 반도체의 결함 검사 방법에 관한 것으로, 기판 상에 질화물 반도체를 형성하는 것, 상기 질화물 반도체를 전처리 하는 것, 및 상기 질화물 반도체의 표면 이미지를 획득하는 것을 포함하되, 상기 질화물 반도체를 전처리 하는 것은 상기 질화물 반도체 상에, 상기 질화물 반도체의 상면과 접하는 마스크 패턴을 형성하는 것, 상기 마스크 패턴이 형성된 상기 질화물 반도체 상에 열처리 공정을 수행하는 것, 및 습식 식각 공정을 수행하여 상기 마스크 패턴을 제거하는 것을 포함하는 질화물 반도체의 결함 검사 방법이 제공된다.
KSP 제안 키워드
nitride semiconductor
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<출처표시방법 안내> 작성자, 저작물명, 출처, 권호, 출판년도, 이용조건 [예시1] 김진미 외, "매니코어 기반 고성능 컴퓨팅을 지원하는 경량커널 동향", 전자통신동향분석, 32권 4호, 2017, 공공누리 제4유형 [예시2] 심진보 외, "제4차 산업 혁명과 ICT - 제4차 산업 혁명 선도를 위한 IDX 추진 전략", ETRI Insight, 2017, 공공누리 제 4유형
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