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상세정보

등록 반도체 소자 제조방법

반도체 소자 제조방법
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발명자
이형석, 배성범, 김진식, 김정진, 이종민, 조규준
출원번호
10-2019-0108584 (2019.09.03) KIPRIS
공개번호
10-2020-0128333 (2020.11.12)
등록번호
10-2404522-0000 (2022.05.27)
출원국
대한민국
협약과제
18PB3700, 전기자동차의 전력변환 효율 향상을 위한 400V 수직형 GaN-on-GaN 에피/전력소자 기술 개발 , 이형석
초록
본 발명은 반도체 소자 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 기판 상에 순차적으로 적층된 제1 질화물 반도체층, 제2 질화물 반도체층 및 제3 질화물 반도체층을 형성하는 단계; 상기 제3 질화물 반도체층의 일부 상에 식각 공정을 수행하여, 상기 제2 질화물 반도체층을 노출하는 제1 트렌치를 형성하는 단계; 상기 제1 트렌치에 의해 노출된 상기 제2 질화물 반도체층의 일부 상에 식각 공정을 수행하여, 제2 트렌치를 형성하는 단계; 및 상기 제2 트렌치에 의해 노출된 상기 제2 질화물 반도체층의 일부 상에 식각 공정을 수행하여, 상기 제1 질화물 반도체층 상에 경사면을 형성하는 단계를 포함하되, 상기 제1 트렌치의 바닥은 상기 제2 질화물 반도체층의 상면 및 바닥면 사이에 위치하고, 상기 제2 트렌치의 바닥은 상기 제1 트렌치의 상기 바닥보다 낮으며, 상기 제2 트렌치의 바닥은 상기 제2 질화물 반도체층의 바닥면보다 높은 반도체 소자 제조 방법에 관한 것이다.
KSP 제안 키워드
semiconductor device