A MOS controlled thyristor device according to the concept of the present invention includes a substrate comprising a first surface and a second surface, which face each other, gate patterns disposed on the first surface, a cathode electrode configured to cover the gate patterns, and an anode electrode disposed on the second surface, The substrate includes a lower emitter layer having a first conductive type, a lower base layer having a second conductive type on the lower emitter layer, an upper base region provided in an upper portion of the lower emitter layer and having a first conductive type, wherein the upper base region is configured to expose a portion of a top surface of the lower base layer, an upper emitter region having a second conductive type and provided in an upper portion of the upper base region, a first doped region having a first conductive type and a second doped region surrounded by the first doped region and having a second conductive type, wherein the first and second doped regions are provided in an upper portion of the upper emitter region, and a first doping pattern having a first conductive type, which is provided on one surface of the upper portion of the upper emitter region. The first doping pattern is interposed between the upper base region and the first doped region along a first direction parallel to the top surface of the substrate. The first doping pattern is configured to expose a top surface of the upper emitter region on the other surface of the upper portion of the upper emitter region. Each of the gate patterns is configured to cover portions of an exposed top surface of the lower base layer, an exposed top surface of the upper base layer, an exposed top surface of the upper emitter region, a top surface of the first doping pattern, and a top surface of the first doped region. The cathode electrode is configured to cover portions of top and side surfaces of the gate pattern, a top surface of the second doped region, and a top surface of the first doped region. The first conductive type and the second conductive type are different from each other.
한국전자통신연구원 지식공유플랫폼에서 제공하는 모든 저작물(각종 연구과제, 성과물 등)은 저작권법에 의하여 보호받는 저작물로 무단복제 및 배포를 원칙적으로 금하고 있습니다. 저작물을 이용 또는 변경하고자 할 때는 다음 사항을 참고하시기 바랍니다.
저작권법 제24조의2에 따라 한국전자통신연구원에서 저작재산권의 전부를 보유한 저작물의 경우에는 별도의 이용허락 없이 자유이용이 가능합니다. 단, 자유이용이 가능한 자료는 "공공저작물 자유이용허락 표시 기준(공공누리, KOGL) 제4유형"을 부착하여 개방하고 있으므로 공공누리 표시가 부착된 저작물인지를 확인한 이후에 자유이용하시기 바랍니다. 자유이용의 경우에는 반드시 저작물의 출처를 구체적으로 표시하여야 하고 비영리 목적으로만 이용이 가능하며 저작물을 변형하거나 2차 저작물로 사용할 수 없습니다.
<출처표시방법 안내> 작성자, 저작물명, 출처, 권호, 출판년도, 이용조건 [예시1] 김진미 외, "매니코어 기반 고성능 컴퓨팅을 지원하는 경량커널 동향", 전자통신동향분석, 32권 4호, 2017, 공공누리 제4유형 [예시2] 심진보 외, "제4차 산업 혁명과 ICT - 제4차 산업 혁명 선도를 위한 IDX 추진 전략", ETRI Insight, 2017, 공공누리 제 4유형
공공누리가 부착되지 않은 자료들을 사용하고자 할 경우에는 담당자와 사전협의한 이후에 이용하여 주시기 바랍니다.