16CS1400, Development of 3D Appearance Manipulation-based Special Makeup Mask Creation Technology for Cinema and Play,
Kim Jin Seo
Abstract
최종 목표: 영화/공연용 캐릭터의 특수분장 3D 마스크를 손쉽게 생성하고, 시뮬레이션하여 3D 프린터로 출력 할 수 있는 디지털 어피어런스 매니퓰레이션 기술 개발
o 3D 마스크 디포머 - 영화/공연용 3D 마스크 및 특수분장 소품 생성/변형 시스템 - 스캔 얼굴 모델로부터 3D 프린팅 가능한 모델로 변환 - 사진 및 스케치 기반 마스크 재단 기술 - 사진 기반 소품 모델링/변형/합성 기술 - 특수분장 소품 제작을 위한 3D 마스크 주형 모델링 기술 - 분할 양각 마스크 제작 기술 - 자유형상 곡면 기반 모델 변형 및 충돌감지 알고리즘
o 3D 마스크 페인터 - 가상 바디페인팅 시뮬레이션 기술 - 가상 페인팅 도구, 물감 효과 렌더링 기술 - 이미지 기반 헤나 페인팅 기술 - 인터랙티브 뷰티피케이션 기술 - 가상 특수분장 소품 합성 및 변형 기술 - 분장용 의류 도안 제작 기술
o 특수분장용 3D 프린팅 기술 - 3D 프린팅 컬러 매니지먼트 기술 - ICC 프로파일 기반 3D 프린팅 프리뷰 SW - 셰이더 기반 3D 프린팅 질감 렌더링 라이브러리 - 3D 컬러 프린팅 및 실감 컬러 재현 관련 표준화 - 3D 프린팅 데이터 변환 및 최적화 기술 - 3D 마스크제작 및 최적화 기술
o 기술문서: 요구사항 정의서, 설계서, 시험결과서, 논문, 특허, 표준기고서
(출처 : 보고서 요약서)
Copyright Policy
ETRI KSP Copyright Policy
The materials provided on this website are subject to copyrights owned by ETRI and protected by the Copyright Act. Any reproduction, modification, or distribution, in whole or in part, requires the prior explicit approval of ETRI. However, under Article 24.2 of the Copyright Act, the materials may be freely used provided the user complies with the following terms:
The materials to be used must have attached a Korea Open Government License (KOGL) Type 4 symbol, which is similar to CC-BY-NC-ND (Creative Commons Attribution Non-Commercial No Derivatives License). Users are free to use the materials only for non-commercial purposes, provided that original works are properly cited and that no alterations, modifications, or changes to such works is made. This website may contain materials for which ETRI does not hold full copyright or for which ETRI shares copyright in conjunction with other third parties. Without explicit permission, any use of such materials without KOGL indication is strictly prohibited and will constitute an infringement of the copyright of ETRI or of the relevant copyright holders.
J. Kim et. al, "Trends in Lightweight Kernel for Many core Based High-Performance Computing", Electronics and Telecommunications Trends. Vol. 32, No. 4, 2017, KOGL Type 4: Source Indication + Commercial Use Prohibition + Change Prohibition
J. Sim et.al, “the Fourth Industrial Revolution and ICT – IDX Strategy for leading the Fourth Industrial Revolution”, ETRI Insight, 2017, KOGL Type 4: Source Indication + Commercial Use Prohibition + Change Prohibition
If you have any questions or concerns about these terms of use, or if you would like to request permission to use any material on this website, please feel free to contact us
KOGL Type 4:(Source Indication + Commercial Use Prohibition+Change Prohibition)
Contact ETRI, Research Information Service Section
Privacy Policy
ETRI KSP Privacy Policy
ETRI does not collect personal information from external users who access our Knowledge Sharing Platform (KSP). Unathorized automated collection of researcher information from our platform without ETRI's consent is strictly prohibited.
[Researcher Information Disclosure] ETRI publicly shares specific researcher information related to research outcomes, including the researcher's name, department, work email, and work phone number.
※ ETRI does not share employee photographs with external users without the explicit consent of the researcher. If a researcher provides consent, their photograph may be displayed on the KSP.