양자통신을 통해 양자정보를 네트워크 단위로 전송하는 기술로 양자원격전송기술이 활용되고 있습니다.
양자원격전송은 양자얽힘 생성 양자광원을 사용하여 네트워크 노드로 양자 얽힘을 분배하고, 분배된 얽힘 광자를 측정하고 조작하여 양자정보를 전송합니다.
양자원격전송을 구현하는 양자얽힘 양자광원은 주기분극 LiNbO3 광도파로 칩을 이용하여 높은 생성율의 양자광원을 제작할 수 있습니다.
본 기술이전은 양자얽힘을 생성하는 양자광원인 주기분극 LiNbO3 광도파로 칩의 공정 기술과 관련 칩의 구조에 대한 특허의 사용 실시권을 이전합니다.
- 양자통신을 통해 양자정보를 네트워크 단위로 전송하는 기술로 양자원격전송기술이 활용되고 있음
- 양자원격전송은 양자얽힘 생성 양자광원을 사용하여 네트워크 노드로 양자 얽힘을 분배하고, 분배된 얽힘 광자를 측정하고 조작하여 양자정보를 전송함
- 양자원격전송을 구현하는 양자얽힘 양자광원은 주기분극 LiNbO3 광도파로 칩을 이용하여 높은 생성율의 양자광원을 제작할 수 있음.
- 양자원격전송 기반의 양자중계기는 양자네트워크 구현의 핵심 sub 시스템으로, 이를 구현을 위해서는 생성률이 높은 고성능의 얽힘 광자쌍 광원이 필요함
0.2 dB/cm 미만의 저손실 LiNbO3 광도파로 칩 공정기술 노하우 제공
0.4 MHz 이상의 얽힘광자 생성율을 가지는 주기분극 구조가 포함된 LiNbO3 광도파로 제작기술 제공
1550 nm 광통신 파장 대역에서 동작하는 양자얽힘 양자광원 칩 제작기술 제공
- 저손실 LiNbO3 광도파로 제작 공정 기술
- 주기분극 구조제작 및 특성평가 기술
- 고성능 얽힘광자 쌍 생성율 양자광원 칩 기술
- 얽힘광자쌍 생성 LiNbO3 광도파로 칩 기술
*1550 nm 광통신 파장의 얽힘 광자쌍 생성기술
* 저손실(0.2 dB/cm 미만) LiNbO3 광도파로 제작 공정 기술
* 나노 박막(300 ~ 600 nm 두께) LiNbO3 주기분극 구조 제작 기술
* 고성능 얽힘광자 쌍 생성율(0.4MHz 이상)을 가지는 광도파로 제작기술
- 양자 데이터 전달을 위한 다중 노드간 얽힘생성기술로 활용
- 양자원격전송 및 양자중계기를 이용한 양자정보 장거리 전송에 필수
- 고전 광통신 분야에서 빠른 동작속도(50GHz 이상) 광 변조기 및 라이다 분야 광변조기로 활용 가능
- LiNbO3 나노 박막 광도파로의 높은 2차 비선형광학 효과를 활용하여 높은 생성률의 고품질 단일광자쌍 생성소자를 구현할 수 있음
- LiNbO3 나노 박막 광집적회로 기술은 양자정보 전송을 위한 장거리 네트워크 구성에 필요한 핵심부품으로 사업화 진행 중
- LiNbO3 나노 박막 광집적회로 기술은 단일광자 기반 양자 컴퓨팅 프로세서용 광집적회로 칩 기술로 활용성이 높고, 상온동작 가능한 양자정보통신 부품 및 모듈 기술로 유망