1. OLED전극용 CVD 그래핀 공정 기술 - 표면처리, 패터닝 공정 기술
2. 그래핀 전극용 OLED소자 구조 설계 기술
3. OLED평가 및 분석 기술
-. OLED는 저전력, 초슬림화, 빠른 응답속도, 넓은 시야각 등이 지원 가능해 세계적 수요에 대응 가능한 디스플레이로 호평 받고 있음. 현재 스마트폰 및 타블릿 PC 뿐만 아니라 55인치 대형 TV 등의 디스플레이 시장에서 OLED의 범위가 점차적으로 커져가고 있음.
-. 기존의 디스플레이들과 달리 OLED는 플렉서블 디스플레이 구현에 용이하다는 장점이 있음. OLED플렉서블 디스플레이 개발을 위해서는 기존에 사용되는 투명전극인 ITO를 대체할 수 있는 전극의 개발이 요구되며, 이와 관련한 연구들이 활발이 진행중임.
-. 여러 대안들 중에서 많은 관심을 받고 있는 소재 중의 하나가 그래핀임. 그림 1와 같이, 그래핀은 디스플레이 분야뿐 아니라 에너지 및 기타 분야로의 활용이 가능하고 이에 따라 다양한 접근이 시도되고 있음
-. 그래핀을 투명 전극으로 적용하기 위해서는 그래핀을 원하는 기판에 전사하고, 이를 패터닝/ 클리닝하고, 그 위에 OLED 소자를 제작함. 이 때 전사된 그래핀 필름을 패터닝하고, 클리닝 하는 공정에 있어서 기존의 ITO와는 물리/화학적으로 특성이 다르기 떄문에 그래핀 필름에 맞는 공정 방법을 확보함.
-. 또한, OLED 소자 특성의 경우에도 전기적, 광학적으로 기존의 ITO와 다르기 때문에, 그래핀 전극을 적용한 경우 이에 맞는 OLED 소자 구조 및 발광 특성을 확보함.
1. 대면적 CVD 그래핀 표면 가공기술
-. 1~4layer별 그래핀 OLED 공정 정합성 기술
-. OLED에 최적화된 표면 평탄도 확보를 위한 그래핀 전극 표면의 평탄화 & 무결점화 기술
2. 그래핀 전극의 미세 패턴 기술
-. photolithography 공정기술 : OLED 화소 형성을 위한 픽셀 구조 패턴 기술
-. 식각 공정 및 세정 기술 최적화
3. 그래핀 소재에 적합한 OLED 패널 설계기술
-. 대면적 적용을 위한 기초 단계 패널 설계 및 구동 기술
-. 광학특성 최적화를 위한 OLED 구조 설계기술
1. 대면적 CVD 그래핀 표면 가공기술
-. 1~4layer별 그래핀 OLED 공정 정합성 기술
-. OLED에 최적화된 표면 평탄도 확보를 위한 그래핀 전극 표면의 평탄화 & 무결점화 기술
2. 그래핀 전극의 미세 패턴 기술
-. photolithography 공정기술 : OLED 화소 형성을 위한 픽셀 구조 패턴 기술
-. 식각 공정 및 세정 기술 최적화
3. 그래핀 소재에 적합한 OLED 패널 설계기술
-. 대면적 적용을 위한 기초 단계 패널 설계 및 구동 기술
-. 광학특성 최적화를 위한 OLED 구조 설계기술
1. 그래핀 투명전극을 적용한 OLED 패널 기술 요구사항 정의서
2. 그래핀 투명전극을 적용한 OLED 패널 기술 시험절차 및 결과서
3. 그래핀 투명전극을 적용한 OLED 패널 기술 관련 기술 문서
-. 본 이전기술은 최적화된 청색 형광과 녹황색 인광 발광 소자구조를 위한 소재 적층 기숭을 확보하고, 이를 기반으로 백색 OLED의 고효율화가 가능할 것으로 기대됨.
-. 발광 단위를 서로 연결해주는 전하 형성층, CGL을 위한 소재 발굴 및 특성을 부여하기 위한 금속 증착기술을 개발하여 기술이전 대상기관에서 활용할 수 있는 기술을 이전할 수 있을 것으로 기대됨.