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단일집적 파장가변 레이저 다이오드 칩 기술

전수책임자
오수환
참여자
권오균, 권오기, 오수환, 윤기홍, 이철욱, 최병석
기술이전수
1
이전연도
2015
협약과제
14MB2100, Optical SDN구현을위한 Metro용 Port-agnostic 광송수신기술개발, 권오균
15MB1300, Optical SDN구현을위한 Metro용 Port-agnostic 광송수신기술개발, 권오균
단일집적 파장 가변 레이저 칩 기술
? 인터넷 이용자의 급속한 확대에 따른 통신 트래픽의 증가와 광통신 분야의 발전 추세에 맞추어 대용량의 WDM(Wavelength Division Multiplexing) 전송망이 구현되고 복잡한 구조의 네트워크가 형성되고 있다. 그 결과 저비용으로 보다 효율적이고 융통성 있는 망을 설계, 운용하기 위한 파장 가변 레이저의 필요성이 증대되어 관련 시장의 전반적인 침체기 속에서도 파장 가변 레이저 기술에는 계속 집중적인 연구 개발 투자가 이루어지고 있다. 그 결과 20여 년 동안 이루어져 온 파장 가변 레이저에 대한 연구가 결실을 맺어, 여러 회사에서 다양한 방식의 상용 제품을 판매하고 있다. 이러한 파장 가변 레이저 제품들은 C-밴드 영역을 모두 가변할 수 있는 것에서 수 nm 수준의 가변 영역을 가지는 것까지 다양한 제품이 있으며, 광출력 파워도 수 mW 에서 수십 mW까지 성능이 다양하다. 이에 따라 장거리(Long Haul: LH) 또는 metro-network 등 다양한 적용 분야에 맞게 선택할 수 있음.
? 에트리는 레이저 다이오드 제작을 20여년간 진행하여 왔으며, 본 기술이전과 관련된 기술에 대한 국내 최고의 기술력을 보유하고 있어, 국가연구기관의 중소기업지원의 흐름에 적합한 기술이전.
? 구체적으로 본 기술이전은 ETRI 보유한 파장가변 레이저 제작기술을 지원하는 내용.
? 업체 요구사항 및 성능 목표를 달성하기 위해 다음과 같이 크게 4가지의 요소 기술로 요약됨.
1) 에피 구조 최적화 설계
2) butt-coupled 영역의 최적의 성장 조건 확립
3) sampled grating 최적화 설계 및 제작
4) 30nm 이상의 파장가변이 가능한 소자의 최적화 설계 및 제작
기술명: 단일집적 파장 가변 레이저 제작 기술
- 에피 구조 최적화 설계
- butt-coupled 영역의 최적의 성장 조건 확립
- sampled grating 최적화 설계 및 제작
- 30nm 이상의 파장가변이 가능한 소자의 최적화 설계 및 제작
기술명 : 파장 가변이 가능한 레이저 다이오드 기술
1. 파장 가변 영역이 C-band이며 30nm이상 가변이 가능한 T-LD
2. 광 출력이 0dBm 이상인 T-LD
3. Butt coupling영역의 집적 효율이 80%이상인 T-LD
4. 30nm 이상 파장 가변이 가능한 SG 최적화 설계 기술
5. SMSR이 30dB이상인 grating 제작 기술
? DFB-LD 백업 광원
? 코히어런트 통신의 광원
? 다양한 파장가변 분야에 적용시켜 상대적으로 부가가치가 높은 시장에 적용