05ZF1100, Devices and materials for plastic transistors,
Kim Seong Hyun
Abstract
가. 연구개발의 최종목표 이동도 $3cm^2/Vs$, 점멸비 $10^8$ 이상의 저 작동 전압 유기 반도체 플라스틱 박막 트랜지스터 소재/소자 제작 및 기본 회로 구현. 나. 연도별 연구개발 목표 및 내용 1차년도 (2004년) 유전체 박막 형성 기술 확립 및 플라스틱 전자 소자 물성 규명 (플라스틱 기판) 1. 유기 반도체 재료 제작 및 플라스틱 기판에서의 유기 반도체 성막 최적화 조건 확립. - 전하 이동도 $1cm^2/Vs$ 이상 확보 - 점멸률 $10^8$ 이상 확보. 작동전압 : 15V 이하 2. 유전율 15 이상의 무기/유기 유전체 박막 형성 기술 확립. - PMMA, Polymide 등 절연체 기술 확립. - 광가교 유기 유전체 패터닝 공정 기술 개발 - 유전체 평균 표면 거칠기 $10{AA}$ 이하. - dielectric loss 0.01 이하. 3. 유기반도체 전도 기구 규명. 4. 유기반도체 트랜지스터 모델링. 2차년도 (2005년) 계면 특성 개선을 통한 유기 반도체 박막 트랜지스터 제작 최적 조건 확립(플라스틱 기판) 1. 유기 반도체 재료 제작 및 계면 개선 기술 확립. - 플라즈마 처리 등을 통한 유전체 표면 개질 기술 확립. - Self-assembly법 등을 통한 표면 개질 기술 확립. - 전하 이동도 3 $cm^2$/Vs 이상 확보. - 점멸률 $10^8$ 이상 확보. 작동전압 ; 10 V 이하 3차년도 (2006년) 패키징 기술 및 기본회로 제작 기술(플라스틱 기판) 1. 소자 패키징 기술 확립 - 소자 수명 5000시간 이상 확보. - Lamination 이용한 패키징 기술 확립. - 절연 보호막 형성에 의한 패키징 기술 개발. 2. 유기 트랜지스터를 이용한 Inverter, Nor gate등 기본적 전자회로 동작 시험.
Copyright Policy
ETRI KSP Copyright Policy
The materials provided on this website are subject to copyrights owned by ETRI and protected by the Copyright Act. Any reproduction, modification, or distribution, in whole or in part, requires the prior explicit approval of ETRI. However, under Article 24.2 of the Copyright Act, the materials may be freely used provided the user complies with the following terms:
The materials to be used must have attached a Korea Open Government License (KOGL) Type 4 symbol, which is similar to CC-BY-NC-ND (Creative Commons Attribution Non-Commercial No Derivatives License). Users are free to use the materials only for non-commercial purposes, provided that original works are properly cited and that no alterations, modifications, or changes to such works is made. This website may contain materials for which ETRI does not hold full copyright or for which ETRI shares copyright in conjunction with other third parties. Without explicit permission, any use of such materials without KOGL indication is strictly prohibited and will constitute an infringement of the copyright of ETRI or of the relevant copyright holders.
J. Kim et. al, "Trends in Lightweight Kernel for Many core Based High-Performance Computing", Electronics and Telecommunications Trends. Vol. 32, No. 4, 2017, KOGL Type 4: Source Indication + Commercial Use Prohibition + Change Prohibition
J. Sim et.al, “the Fourth Industrial Revolution and ICT – IDX Strategy for leading the Fourth Industrial Revolution”, ETRI Insight, 2017, KOGL Type 4: Source Indication + Commercial Use Prohibition + Change Prohibition
If you have any questions or concerns about these terms of use, or if you would like to request permission to use any material on this website, please feel free to contact us
KOGL Type 4:(Source Indication + Commercial Use Prohibition+Change Prohibition)
Contact ETRI, Research Information Service Section
Privacy Policy
ETRI KSP Privacy Policy
ETRI does not collect personal information from external users who access our Knowledge Sharing Platform (KSP). Unathorized automated collection of researcher information from our platform without ETRI's consent is strictly prohibited.
[Researcher Information Disclosure] ETRI publicly shares specific researcher information related to research outcomes, including the researcher's name, department, work email, and work phone number.
※ ETRI does not share employee photographs with external users without the explicit consent of the researcher. If a researcher provides consent, their photograph may be displayed on the KSP.