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Year ~ Transaction Count Keyword

Detail

Requirement Specifications of Technology Transfer for color photoresist and its OLED applications

Manager
Cho Nam Sung
Participants
Kang Chan-Mo, Kwon Byoung-Hwa, Kukjoo Kim, Gi Heon Kim, Chunwon Byun, Shin Jin Wook, Ahn Dae Hyun, Lee Kangme, Lee Jeong Ik, Hyunkoo Lee, Cho Nam Sung, Hyunsu Cho, Joo Chul Woong, Sukyung Choi
Transaction Count
2
Year
2021
Project Code
21ZB1200, ICT 소재·부품·장비 자립기술 및 도전기술 개발, Hwang Chi-Sun
저온경화형 및 고해상도 컬러포토레지스트 소재개발 및 이를 적용한 OLED 디스플레이 응용기술 개발에 관한 기술이전으로서 소재의 자립 및 국산화를 지원하고 개발된 소재의 디스플레이 적용을 통한 사업화를 촉진하고자 하는 기술이전임
○ 마이크로디스플레이에 대한 필요성 및 관심이 점차 커지고 있어 각 국가별, 기업별로 이에 대한 관련 연구 및 개발 경쟁이 치열하게 전개되고 있다. 지금까지는 스마트폰이나 태블릿 등의 중소형 디스플레이, TV나 전광판 등 대형 디스플레이 개발을 대기업 중심으로 생산 기술 개발에 주로 치중하고 있다. 따라서 마이크로디스플레이에 요구되는 기술의 조기 확보를 위한 전략 수립이 시급한 상황이다.

○ 마이크로디스플레이는 매우 부피가 작고 가벼워 헤드마운트 디스플레이나 및 증강현실 디스플레이로 가장 적합한 기술로 현재 액정을 이용한 것과 OLED를 이용한 기술이 대표적이다. 액정의 경우 광원 및 광학계가 필요하여 무겁고 부피가 큰 단점이 있다. 따라서 OLED를 이용한 마이크로디스플레이를 개발함으로써 가볍고 부피가 작은 마이크로디스플레이를 제작할 수 있어 헤드마운트 디스플레이나 스마트안경 등에 더 적합할 수 있다.

○ OLED를 마이크로디스플레이에 적용하기 위해서는 불투명한 wafer 상부에 OLED를 제작해야 하므로 상부발광구조를 이루어야 한다. 이 때 상부에 사용되는 전극의 반사로 인해 공진 구조가 만들어지게 되며 생성된 공진 구조에 의해 발광 효율 및 스펙트럼이 크게 변하기 때문에 광학적 최적화를 위한 OLED 소자 구조를 설계하는 기술이 매우 중요하다.

○ OLED 마이크로디스플레이는 CMOS 회로가 형성된 wafer를 이용하기 때문에, CMOS 회로로 구동할 수 있는 OLED 소자 구조의 설계가 필요하다. CMOS회로로 구동할 수 있는 전압의 범위가 제한되기 때문에, 구동 전압 범위 내에서 OLED 소자가 충분한 휘도가 구현될 수 있도록 소자의 광학적 설계뿐만 아니라 전기적 최적화를 위한 OLED 소재 및 소자 구조 설계 기술 또한 매우 중요하다. ○ OLED 마이크로디스플레이에 화소를 구성하는 방법으로 저온경화형 및 고해상도 컬러포토레지스트 소재를 CMOS 회로가 형성된 wafer 기판위에 정확히 얼라인 하게되며 여기에 다양한 공정기술이 요구된다. 또한 OLED구조와 컬러포토레지스트 소재 공정을 수행하기 위하여 고신뢰성을 갖는 박막봉지기술도 개발이 요구된다.
-. 디스플레이 분야에서 소재부품 자립 및 국산화에 핵심소재인 컬러포토레지스트 소재 개발을 지원하는 디스플레이 응용기술을 개발하고 이를 이전함
-. 특히 고해상도 및 저온경화형 컬러포토레지스트 소재는 세계최초로 개발되는 소재로 디스플레이에 적용하는 기술을 개발/지원함으로 개발가속화를 이루고자 함
-. 저온경화 및 고해상도 디스플레이를 위한 컬러포토레지스트 소재 분석 및 평가
-. 저온경화 및 고해상도 컬러포토레지스트 공정기술 (박막제조, 노광, 현상 기술)
-. 박막봉지 제조기술
-. White OLED용 소재 및 소자 구성 기술
-. OLED 마이크로 디스플레이 공정 및 패널 기술
-. OLED 마이크로 디스플레이 시제품 제작기술
-. 저온경화 및 고해상도 디스플레이를 위한 컬러포토레지스트 소재 분석 및 평가
저온경화 조건 및 고해상도 구현을 위한 소재 기본 물성 평가 지원
-. 저온경화 및 고해상도 컬러포토레지스트 공정기술 (박막제조, 노광, 현상 기술)
컬러포토레지스트의 박막두께-노광-현상 기술 최적화
-. 박막봉지 제조기술
고신뢰성의 박막봉지용 소재 및 구조기술
-. White OLED용 소재 및 소자 구성 기술
고효율의 white OLED 소재구성 및 소자설계기술
-. OLED 마이크로 디스플레이 공정 및 패널 기술
컬러포토레지스트 소재가 적용된 마이크로 디스플레이 패널 제조기술
-. OLED 마이크로 디스플레이 시제품 제작기술
컬러포토레지스트 소재가 적용된 마이크로디스플레이 시제품 제조기술
○ 본 기술이전에 포함되어 있는 컬러포토레지스트의 디스플레이 응용기술, 박막봉지기술, 백색 OLED 소자구조기술, 패널제작을 위한 패키징 기술 그리고 시제품 제작기술등은 차세대 디스플레이 기술로서 새로운 사업화를 위한 소재개발부터 패널, 완제품까지 포함하는 일괄공정 기술이다.
○ 개발된 저온성형 및 고해상도 컬러포토레지스트 소재를 디스플레이에 평가하는 기술에는 박막형성기술, 노광기술, 그리고 현상 기술등이 핵심이며 CMOS wafer 기판위에 정확하게 얼라인하여 화소 구동시 고화질 구현하는데 핵심 평가기술이다.
○ 고해상도 및 고화질의 OLED 마이크로디스플레이를 제작하기 위하여 고효율의 탠덤 백색 OLED 구조 개발이 필수적이다. 여기에는 2개의 발광층으로 분리된 2-stack 탬덤기술과 발광층이 단일층으로 융합된 single stack 탠덤 백색구조기술이 개발되었다. 화소의 수명과 성능, 색재현율, 그리고 화소간 간섭을 최소화하는 다양한 탠덤 백색 소자구조기술이 개발되었다.
○ 탠덤 백색OLED 소자위에 컬러포토레지스트 화소형성 공정을 수행시에 발생하는 현상공정상에 유기용매 및 증류수 공정에 OLED소자 보호를 위한 다양한 유뮤기 하이브리드 박막봉지 구조기술되 개발되었다.
○ 컬러포토레지스트 공정이 완료되어 화소가 형성되면 패널의 구동테스트를 진행하
고 이를 최적화하는 구동기술, 광학기술, 그리고 패키징 기술도 개발되었다.
○ 패키징이 완료된 후 실제로 소비자가 경험할 수 있는 시제품을 제작하는 기술도 확보하여 소재부터 완제품까지 포함하는 소재-부품-제품 일괄기술을 개발하였다.